使用可流动式cvd膜的hdd图案化

  • Inventors:
  • Assignees: 应用材料公司
  • Publication Date: September 22, 2017
  • Publication Number: CN-104995333-B

Abstract

提供了用于形成图案化的磁性基板的方法和装置。将图案化的抗蚀部形成于基板的磁致激活表面上。通过可流动式CVD工艺将氧化物层形成在所述图案化的抗蚀部之上。蚀刻所述氧化物层,以使所述图案化的抗蚀部的部分暴露出来。随后,使用经蚀刻的氧化物层作为掩模来对所述图案化的抗蚀部进行蚀刻,以使所述磁致激活表面的部分暴露出来。随后,通过引导能量穿过经蚀刻的抗蚀层和经蚀刻的氧化物层,对所述磁致激活表面的暴露部分的磁特性进行改性,然后,将所述经蚀刻的抗蚀层和所述经蚀刻的氧化物层从所述基板去除。

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    Patent Citations (2)

      Publication numberPublication dateAssigneeTitle
      CN-101542609-ASeptember 23, 2009株式会社东芝制造离散轨道记录介质的方法和离散轨道记录介质
      CN-102668061-ASeptember 12, 2012应用材料公司Post-planarization densification

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